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鎢鈦（WTi）透氣膜在半導體器件設備設備和光伏系統電芯市場中可以用在作Al和Si區間內能夠的擴散作用攔阻層，其核心進行高中電學液相沉淀（PVD）工藝、進行磁控濺射WTi鎳鋼靶材而兌換。 在半導體器件設備設備行業中，鎢透氣膜核心看做具有光學核心部件的用料，隨后柵金屬電極或走線用料。這樣光學核心部件的集成式度、靠譜性、職能功能和加工速度快等需求急劇增高。 鎢硅靶材進行高中電學液相沉淀工藝（PVD）制法獲得鎢硅透氣膜，運用在半導體器件設備設備、格外是數據庫器，如DRAM中，客串能夠的柵極奧姆打交道層

技術工藝應用科技領域：半導體器件及自動化技術工藝? 電光線? 空航航天工程及二手車工業生產

行業領域中機會修改高使用功能的WTi不銹鋼靶材，即濺射環節中所產生的小粒數少、達到的薄膜和珍珠棉均一性強幷且具備良好的電使用功能的靶材。成了需要滿足復雜化集成型電線粘附遮擋層正規性的特殊要求，虹鷺的WTi不銹鋼靶材具備高飽和度和高強度的性。

虹鷺生育的鎢靶黏度高，進行飽滿，濺射的鎢貼膜具有著低電阻器、高耐溫等優點，常見用在半導智能電子零配件中，幷且非常不錯的要求了市場標準。

半導體技術的領域用的鎢硅靶材在純凈度、安排架構把控好或靶材引擎縱向服務質量統一性等上存在特別嚴苛的耍求，其對薄膜和珍珠棉的特性起著至關關鍵的引響。

好產品行態：鎢 / 鎢鈦 / 鎢硅靶材，的形狀可訂做純凈度：鎢（上至5N）/? 鎢鈦（上至4N5）/ 鎢硅（上至4N5）